行業(yè)概述

目前能實(shí)現(xiàn)納米級(jí)制造（加工），并已經(jīng)商業(yè)化或正在商業(yè)化技術(shù)路徑的大類包括深紫外光刻、納米壓印、電子束加工（電能最終轉(zhuǎn)化為熱能）、離子束加工（電能轉(zhuǎn)化為動(dòng)能，離子刻蝕、離子鍍膜和離子注入），主要制造（加工）平面結(jié)構(gòu)（例如集成電路、膜材等）。即使通過(guò)輔助工藝手段（如選擇性刻蝕、熱回流）,也只能獲得2.5D結(jié)構(gòu)（如金字塔結(jié)構(gòu)、微針結(jié)構(gòu)、微透鏡結(jié)構(gòu)等）。而微納 3D 打印這一大類別的技術(shù)路徑（廣義概念也包括基于光聚合成型的灰度光刻）在復(fù)雜3D微納結(jié)構(gòu)、高深寬比微納結(jié)構(gòu)以及復(fù)合材料3D微納結(jié)構(gòu)制造方面都具有很大的潛能和突出優(yōu)勢(shì)，而且還具有設(shè)備簡(jiǎn)單、效率高、用材廣泛、無(wú)需掩模或模具直接成型等優(yōu)點(diǎn)。

微納3D打印技術(shù)現(xiàn)狀

從基本技術(shù)原理和工藝上劃分，微納 3D 打印可細(xì)分為微立體光刻（Micro Stereo Lithography, MSL/mSL或Masked Stereo Lithography Apparatus, MSLA) 、微激光燒結(jié)(MSLS) 、熔融沉積造型（Fused Deposition Modeling, FDM）、片材層壓（Laminated Object Manufacturing, LOM） 、雙光子聚合（Two-Photon Polymerization, TPP）、直寫成型技術(shù)（Direct Ink Writing, DIW） 、電噴印（Electro hydrodynamic jet printing, E-jet）、電化學(xué)沉積（Electrochemical Fabrication, EFAB）等技術(shù)路徑小類別。

微納3D打印技術(shù)涉及材料、物理、機(jī)械領(lǐng)域中多因素、多層次的極端復(fù)雜系統(tǒng)，在此條件下，應(yīng)結(jié)合大數(shù)據(jù)和人工智能技術(shù)來(lái)研究這一極端復(fù)雜系統(tǒng)，在打印制造的多功能集成優(yōu)化設(shè)計(jì)原理和方法上實(shí)現(xiàn)突破，發(fā)展形、性主動(dòng)可控的智能微納3D打印技術(shù)；同時(shí)，應(yīng)重視其與材料、軟件、人工智能、機(jī)械工程等的交叉研究，挖掘其在光子學(xué)、微光子學(xué)、微流道、生命科學(xué)、微納科技等領(lǐng)域，尤其是在生物醫(yī)學(xué)和納米科技等領(lǐng)域的巨大潛能。智能化微納3D打印技術(shù)和裝備的發(fā)展有望帶動(dòng)未來(lái)增材制造技術(shù)的發(fā)展，提升3D打印技術(shù)應(yīng)用的可靠性，創(chuàng)造出顛覆性的新結(jié)構(gòu)和新功能器件，更好地支撐國(guó)家及國(guó)防制造能力的提升。

目前全球商用的生產(chǎn)微納打印系統(tǒng)（設(shè)備+材料）公司包括Nanoscribe、Boston Micro Fabrication（即摩方精密）、Microlight3D、UpNano（與Cubicure合作）、Heidelberg Instruments等基于光聚合成型技術(shù)的公司；此外還包括Nano Dimension（PCB打?。?D Micro Print（微激光燒結(jié)）、Nano Fabrica（已被Nano Dimension收購(gòu)）、Exaddon（電化學(xué)沉積）、Cytosurge（微流控+原子力顯微鏡）、Fluicell（微流控）等非光聚合成型技術(shù)路徑的微打印公司。

光聚合成型的微納3D打印代表性公司如下：

1. Nanoscribe
Nanoscribe成立于2007年，總部位于德國(guó)卡爾斯魯厄，擁有卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）的技術(shù)背景和卡爾蔡司公司的支持。經(jīng)過(guò)十幾年的不斷研究和成長(zhǎng)，Nanoscribe已成為微納米生產(chǎn)的先驅(qū)和3D打印市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)者，推動(dòng)著諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。Nanoscribe將年?duì)I業(yè)額的25%投入到未來(lái)的微納制造技術(shù)的研發(fā)。其在全球擁有超過(guò)70位高素質(zhì)的員工，致力于雙光子聚合技術(shù)的研發(fā)制造與售后服務(wù)事業(yè)。提供整套硬件，軟件，打印材料和工藝技術(shù)一站式服務(wù)，以協(xié)助用戶實(shí)現(xiàn)復(fù)雜三維微納米結(jié)構(gòu)加工的需求。遍布全球30多個(gè)國(guó)家，超過(guò)2000名用戶正在使用Nanoscribe的產(chǎn)品。包括多所全球前十頂尖大學(xué)，例如哈佛大學(xué)，斯坦福大學(xué)，加州理工學(xué)院，牛津大學(xué)，倫敦帝國(guó)理工學(xué)院，蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院等等。2021年，Nanoscribe被瑞典3D生物打印設(shè)備商CELLINK公司以5000萬(wàn)歐元估值收購(gòu)，收購(gòu)后維持獨(dú)立運(yùn)營(yíng)。

2. Microlight3D
Microlight3D成立于2016年，總部位于法國(guó)，是一家生產(chǎn)用于工業(yè)和科學(xué)應(yīng)用的高分辨率微尺度2D和3D打印系統(tǒng)的專業(yè)制造商。MicroFAB-3D光刻機(jī)是該公司于2019年推出的第一臺(tái)緊湊臺(tái)式雙光子聚合系統(tǒng)，一經(jīng)推出便得到客戶的廣泛好評(píng)。MicroFAB-3D基于雙光子聚合激光直寫技術(shù)，可在各種光敏材料上制造出最小尺寸可達(dá)67nm的二維和三維特征結(jié)構(gòu)，兼容各種聚合物，包括生物兼容性材料、醫(yī)用樹(shù)脂和生物材料，為微流控、微光學(xué)、細(xì)胞培養(yǎng)、微機(jī)器人或人造材料領(lǐng)域開(kāi)辟了新的前景。

3. 摩方精密
重慶摩方精密科技股份有限公司（BMF Precision Tech Inc.），精密增材制造量身定做。其nanoArch®系列3D打印設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。PμSL技術(shù)使用高精度紫外光刻投影系統(tǒng)，將需打印模型分層投影至樹(shù)脂液面，快速微立體成型，從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜工業(yè)樣件。該技術(shù)具有成型效率高、加工成本低等突出優(yōu)勢(shì)，被認(rèn)為是目前最具有前景的微尺度加工技術(shù)之一。作為高精密增材制造領(lǐng)域的企業(yè)，摩方公司已和眾多全球知名企業(yè)開(kāi)展業(yè)務(wù)合作，包括GE醫(yī)療、美國(guó)強(qiáng)生、日本電裝、安費(fèi)諾、泰科電子等，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用在連接器、精密醫(yī)療器械、消費(fèi)電子、精密加工等行業(yè)。作為微納3D打印的先行者，在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微加工領(lǐng)域，摩方團(tuán)隊(duì)擁有超過(guò)二十年的科研及工程實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。針對(duì)客戶在新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題，我們將持續(xù)提供簡(jiǎn)易高效的技術(shù)支持方案。摩方自主研發(fā)的3D打印系統(tǒng)也已被北京大學(xué)、浙江大學(xué)、北航、中石油、英國(guó)諾丁漢、德國(guó)德累斯頓理工、新加坡南洋理工等眾多全球高校和科研機(jī)構(gòu)所使用。

4. 魔技科技
魔技納米科技有限公司是三維微納制造領(lǐng)域集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、服務(wù)于一體的高新技術(shù)企業(yè)。核心研發(fā)團(tuán)隊(duì)擁有12年以上超快激光三維加工設(shè)備研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，致力打造具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的超穩(wěn)定納米級(jí)三維激光光刻直寫制造系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)加工精度達(dá)70納米的三維加工能力，提供集先進(jìn)光學(xué)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、整機(jī)設(shè)計(jì)于一體的光機(jī)電系統(tǒng)完整技術(shù)方案。深入生物醫(yī)療、光電通信、新材料、微納器件等多個(gè)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用領(lǐng)域，并擁有應(yīng)用于多行業(yè)場(chǎng)景的成熟加工工藝?？啥ㄖ蒲邪l(fā)適配各產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域生產(chǎn)需求的個(gè)性化設(shè)備和產(chǎn)品，突破生物制藥、傳感、光電芯片、超材料等領(lǐng)域從科研到工業(yè)生產(chǎn)的屏障，將納米級(jí)制造精度和大范圍生產(chǎn)相結(jié)合，提供針對(duì)精密智造領(lǐng)域的整套專業(yè)解決方案。

一、 行業(yè)概述
1.統(tǒng)計(jì)及調(diào)研分析范疇
1.1行業(yè)定義及名詞解釋
1.2研究?jī)?nèi)容及研究地區(qū)
1.3全球微納3d打印行業(yè)發(fā)展概述
1.4全球微納3d打印產(chǎn)業(yè)鏈布局
1.5全球微納3d打印產(chǎn)業(yè)政策及法規(guī)解讀
二、 全球微納3d打印技術(shù)方案分析
1.微納3D打印技術(shù)現(xiàn)狀
1.1微立體光刻（Micro Stereo Lithography, MSL/mSL或Masked Stereo Lithography Apparatus, MSLA)
1.2微激光燒結(jié)(MSLS)
1.3熔融沉積造型（Fused Deposition Modeling, FDM）
1.4片材層壓（Laminated Object Manufacturing, LOM）
1.5雙光子聚合（Two-Photon Polymerization, TPP）
1.6直寫成型技術(shù)（Direct Ink Writing, DIW）
1.7電噴?。‥lectro hydrodynamic jet printing, E-jet）
1.8電化學(xué)沉積（Electrochemical Fabrication, EFAB）
2.技術(shù)方案市場(chǎng)規(guī)模
2.12022-2028年全球微納3d打印不同主要技術(shù)規(guī)模
3.前沿技術(shù)發(fā)展及未來(lái)趨勢(shì)
三、 全球微納3d打印產(chǎn)業(yè)鏈上游研究
1.全球微納3d打印產(chǎn)業(yè)鏈上游概述
1.1核心設(shè)備種類
1.2原材料種類
2.全球微納3d打印產(chǎn)業(yè)鏈上游市場(chǎng)研究
2.1全球核心設(shè)備種類市場(chǎng)規(guī)模（市場(chǎng)空間）
2.2全球不同原材料市場(chǎng)規(guī)模
四、 全球微納3d打印中游企業(yè)分析
2.1全球微納3d打印中游競(jìng)爭(zhēng)企業(yè)概述
2.22023年全球3d打印中游競(jìng)爭(zhēng)企業(yè)市場(chǎng)規(guī)模及占比
2.3全球3d打印中游競(jìng)爭(zhēng)集中度分析
2.4重點(diǎn)企業(yè)分析
五、下游領(lǐng)域分析
1.全球微納3d打印下游領(lǐng)域概述
1.1高端科研
1.2生物醫(yī)療
1.3生物科技
1.4微電子等領(lǐng)域
2.全球微納3d打印下游領(lǐng)域市場(chǎng)規(guī)模及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)
2.12022-2028年全球微納3d打印下游領(lǐng)域市場(chǎng)規(guī)模及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)
六、 結(jié)論